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glenresearch 10-1536-02說(shuō)明書(shū)

 更新時(shí)間:2021-06-23 點(diǎn)擊量:720

glenresearch 10-1536-02說(shuō)明書(shū)

 

Fmoc 氨基改性劑 C6 dT

5'-二甲氧基三苯甲基-5-[N-((9-芴基甲氧基羰基)-氨基己基)-3-丙烯酰亞胺]-2'-脫氧尿苷,3'-[(2-氰乙基)-(N,N-二異丙基)]-亞磷酰胺
 
 
Fmoc 氨基改性劑 C6 dT
 

產(chǎn)品規(guī)格

公式:
 
C 63 H 73 N 6 O 11 P
兆瓦:
 
1121.28
固件:
 
458.41(NH2)
 

 

描述

我們的 NHS 酯衍生物系列已擴(kuò)展到包括 NHS-Carboxy-dT-CE Phosphoramidite。通過(guò)制備羧基修飾劑 C10 的 dT 類(lèi)似物,可以標(biāo)記寡核苷酸內(nèi)的一個(gè)或多個(gè)位點(diǎn)。當(dāng)亞磷酰胺不可用時(shí),這開(kāi)辟了在寡核苷酸內(nèi)標(biāo)記任意數(shù)量的不同染料或分子的可能性。這樣做很簡(jiǎn)單,可以在合成儀之外手動(dòng)完成,甚至可以在 DNA 合成儀上以全自動(dòng)方式完成。我們從未發(fā)現(xiàn)允許從氨基修飾劑中去除 TFA 基團(tuán)而寡核苷酸仍然附著在支持物上的條件。我們能夠通過(guò)使用 9-芴基甲氧基羰基 (Fmoc) 保護(hù)基團(tuán)來(lái)解決這個(gè)問(wèn)題。使用兩步程序去除 Fmoc 組,第一個(gè)步驟是使用 1% 二異丙胺的乙腈溶液去除氰乙基保護(hù)基團(tuán)并從合成柱中沖洗形成的丙烯腈,第二個(gè)步驟是使用 10% 哌啶的 DMF 溶液去除 Fmoc 基團(tuán)。在柱上如此形成的氨基可以與多種活化酯反應(yīng)。我們提供 Fmoc-Amino-Modifier C6 dT Phosphoramidite 作為核苷選項(xiàng),提供 Amino-Modifier Serinol Phosphoramidite 作為非核苷選擇。我們還提供 S-Bz-硫醇改性劑 C6-dT 以加入用于寡核苷酸合成的硫醇改性劑行列。硫醇改性劑 C6-dT 可以像往常一樣添加到序列中的所需位置。在柱上如此形成的氨基可以與多種活化酯反應(yīng)。我們提供 Fmoc-氨基改性劑 C6 dT 亞磷酰胺作為核苷選項(xiàng),氨基改性劑絲氨醇亞磷酰胺作為非核苷選擇。我們還提供 S-Bz-硫醇改性劑 C6-dT 以加入用于寡核苷酸合成的硫醇改性劑行列。硫醇改性劑 C6-dT 可以像往常一樣添加到序列中的所需位置。在柱上如此形成的氨基可以與多種活化酯反應(yīng)。我們提供 Fmoc-氨基改性劑 C6 dT 亞磷酰胺作為核苷選項(xiàng),氨基改性劑絲氨醇亞磷酰胺作為非核苷選擇。我們還提供 S-Bz-硫醇改性劑 C6-dT 以加入用于寡核苷酸合成的硫醇改性劑行列。硫醇改性劑 C6-dT 可以像往常一樣添加到序列中的所需位置。
 

細(xì)節(jié)

用法

  • 耦合:無(wú)需對(duì)合成器制造商推薦的標(biāo)準(zhǔn)方法進(jìn)行更改。
  • 脫保護(hù):為了在柱上標(biāo)記胺,依次用 1 ml 載體、10% 二乙胺/ACN(去除氰乙基保護(hù))和 20% 哌啶/DMF 去除 Fmoc 保護(hù)10 分鐘。用 DMF 和 ACN 沖洗載體以去除哌啶。將 NHS 酯(過(guò)量 5-10 倍)溶解在 0.5 ml 含有 1% 二異丙基乙胺的適當(dāng)溶劑中,并在 35 oC 下用 CPG 孵育 2-4 小時(shí)以標(biāo)記胺。沖洗支架以去除多余的標(biāo)簽并正?;蛟谂c耦合標(biāo)簽兼容的條件下切割/去保護(hù)。
規(guī)格
沖淡無(wú)水乙腈
貯存冷凍儲(chǔ)存,-10 至 -30°C,干燥
穩(wěn)定2-3天
 

稀釋/偶聯(lián)數(shù)據(jù)

下表顯示了包裝尺寸數(shù)據(jù),以及基于正常啟動(dòng)程序的溶液稀釋和近似耦合。

ABI 392/394

目錄 #包裝尺寸克/包0.1M 刻度 (毫升)添加的大約數(shù)量
 LV40LV20040納米0.2μm1μm10μm
10-1536-020.25 克.25 克2.236136.622.8816.6412.23.05
10-1536-90100 微摩爾.112克120127.55.4541

加快

目錄 #包裝尺寸克/包稀釋?zhuān)ê辽?/font>添加的大約數(shù)量
 摩爾濃度50納米0.2μm1μm15μm
10-1536-020.25 克.25 克3.330.0760.237.6327.363.76
10-1536-90100 微摩爾.112克1.50.0723.614.7510.731.48